设计说明

介电屏障放电(DBD)等离子电极设计。

双电极设计，属直接式等离子。

电极幅宽可以客制化。

电极扩充性高，处理速度快。

可适用各种片材、薄膜或卷材。

可于自动化在线模块架设或搭配单机出货。

性能

可作产品单面或双面处理。

反应气体可直接使用空气（CDA）。

气体及电力运作成本低。

电极有效幅宽100 mm~2300 mm(客制化，宽度可以再加大)

一般可处理的速度为0.5至10 m/min。(依制程需求，可进一步讨论)

等离子稳定性、均匀度高。

应用

各式印刷电路板上表面清洁与改质(表面活化与粗糙度改善)，适用于镀金、镀铜或出货前处理。

玻璃、ITO玻璃基板表面清洁及改质(如改善亲水性)。

TP各项制程LCD或Sensor清洁。

CF制程中素玻璃、ITO玻璃、上BM及R、G、B光阻前各项panel清洁应用，可取代传统UV-Ozone清洗机，以节省大量运作成本，并提高清洗效率。

各式电子或非电子元件/材料表面清洁与改质，可适用于多种金属或非金属材料的处理(如PI、PET、PE、塑胶等)。

成长薄膜应用。